膜厚仪

膜厚仪可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层.薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。膜厚仪的特点

　　1,可以测量多层膜中每一层的厚度

　　2,三维的厚度型貌

　　3,远程控制和在线测量

　　4,可做150mmor300mm的大范围的扫描测试

　　5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.

　　6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.

　　7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.

　　8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等>膜厚仪的技术参数

　　厚度测量:10纳米-250微米;可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;

　　波长:250-1100nm

　　厚度范围:10nm--250m

　　分辨率:0,1nm

　　重复性:0,3nm

　　准确率:<1[%](100nm--100m)

　　测试时间:100ms--<1s

　　分析层数:1--4

　　离光纤距离:1-5mm

　　离镜头距离:5mm--100mm

　　入射角度:90°

　　光斑点大小:400m

　　微光斑手段:与显微镜联用,1--20mwithMicroscope10x/20x/50xMagnificationandMFA-Adapter;

　　光纤长度:2m(otherlengthesonrequest)

　　接口:USB1.1(RS-232)

　　电源需求:12VDC@1,2A,220VAC50/60Hz

　　尺寸:180mmx152mmx263mm

　　总量:3.5kg>膜厚仪的使用场合 　　膜厚仪主要应用于晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2,Si3N4,Photo-resist,ITO,...);晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag,Al,Au,Ti,...);DLC(DiamondLikeCarbon)硬涂层;SOI硅片;MEMs厚层薄膜(100mupto250m);DVD/CD涂层;光学镜头涂层;SOI硅片;金属箔;晶片与Mask间气层;减薄的晶片(<120m);瓶子或注射器等带弧度的涂层;薄膜工业的在线过程控制等等许多场合。