| 名称：低压化学等离子气相沉积设备 | 产品用途：本设备主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长 |
PECVD设备
产品简介： PECVD在太阳能光伏行业中，用于制备减反射膜。PECVD可淀积氧化硅、氮化硅等薄膜。
产品特点及优势：
自动上下料装置
配备自动舟升降，舟进出等功能，实现四层炉体的自动舟存取全自动化，避免了人工搬上搬下的繁重体力劳动和不确定性。
稳定的射频引入方式方便可靠的电极连接方式稳定、直观、易于操作
高性能进口原器件组合
采用进口压控系统、射频源、干泵、流量计及进口气路元器件，确保设备运行的可靠性和工艺的均匀性。
成熟工艺，成熟产品
五十余年专业电子设备研发经验，铸就成熟工艺及成熟产品，且成膜均匀性好并具有较高的转换效率；应用于国内多条太阳能电池片生产线.
技术参数:
•产能：125×125mm，288片
156×156mm，240片
•结构型式：---------------------------------卧式热壁型
•工作温度范围：------------------------------150～500℃
•恒温区长度及精度：--------------------------------±1℃/1300mm
•折射率：-----------------------------------2.0～2.2
•系统极限真空度：--------------------------- 优于1Pa
•工作压力范围及精度：------------------------±0.3pa/100～300闭环控制
•系统漏气率：--------------------------------〈1.5pa/min
•控制方式：---------------------------------- 工业微机控制
•淀积薄膜均匀性(80Å情况下):
薄膜 片内 片间 批间
Si3N4 ±5％ ±5％ ±5％