氧化锆（ZrO2）单晶基片是最早呗开发应用的高温超导基片之一。由于 ZrO2 需掺入钇（Y）以稳定结构，一般实际使用的是 YSZ 单晶---加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在是阳性薄膜制备工作中。
主要性能参数
晶体结构：立方
晶格常数：a=5.147 Å
熔点（℃）：2700
密度（g/cm3）：6.0
硬度：8-8.5（mohs）
纯度：99.99%
热膨胀系数（/℃）：10.3×10-6
介电常数：ε=27
生长方法：弧熔法
尺寸：10x3，10x5，1010，15x15，，2015，2020，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm
厚度：0.5mm，1.0mm
抛光：单面或双面
晶向：<001>±0.5º
晶面定向精度： ±0.5°
边缘定向精度：2°（特殊要求可达 1°以内）
斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角 1°－45°）的晶片。
Ra：≤5Å（5µm×5µm）
包装：100 级洁净袋，1000 级超净室
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