29日上午，警方、研究机构、消防部门等政府机关有关人员在位于京畿道华城市的三星电子华城半导体工厂开展联合调查
当日凌晨2时30分对同一地点的氢氟酸监测值分别为0.3ppm和0.7ppm。在建筑物外部未监测到氢氟酸气体。国立环境科学院计划于当日下午进行精密检测，确认是否仍然存在氢氟酸泄漏现象。分析结果至少需要24小时。
国立环境科学院相关负责人称，目前推测认为地面残留的氢氟酸挥发导致监测浓度偏高，并非是氢氟酸继续泄漏造成的。现在已要求三星工厂做好持续换气和清除工作，换气时有良好的技术安全保障，不会对外界空气造成污染。
此前，三星电子华城半导体工厂于27日晚至28日早上发生氢氟酸泄露事故，造成1人死亡，4人受伤。
